1 主題內(nèi)容與適用范圍
　　本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了車間空氣中呼吸性矽塵最高容許濃度及其監(jiān)測(cè)檢驗(yàn)方法。
　　本標(biāo)準(zhǔn)適用于矽塵作業(yè)的各類企業(yè)。
　　2 引用標(biāo)準(zhǔn)
　　GB5748 作業(yè)場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定方法
　　3 術(shù)語(yǔ)
　　呼吸性矽塵：本標(biāo)準(zhǔn)中的呼吸性粉塵系指采集的粉塵空氣動(dòng)力學(xué)直徑均在7.07μm以下，而且空氣動(dòng)力學(xué)直徑5μm粉塵的采集效率為50%。呼吸性粉塵中的游離二氧化硅含量在10%以上者稱為呼吸性矽塵。呼吸性粉塵采樣器應(yīng)具有下列分離粒子的特性：
　　
　　式中：P——透過(guò)率；
　　D——粉塵空氣動(dòng)力學(xué)直徑，μm；
　　D₀——7.07μm。
　　4 衛(wèi)生要求
　　車間空氣中含10%~50%游離二氧化硅呼吸性矽塵最高容許濃度為1mg/m³。
　　車間空氣中含大于50%~80%游離二氧化硅呼吸性矽塵最高容許濃度為0.5mg/m³。
　　車間空氣中含80%以上游離二氧化硅呼吸性矽塵最高容許濃度為0.3mg/m³。
　　5 監(jiān)測(cè)檢驗(yàn)方法
　　車間空氣中呼吸性矽塵濃度的測(cè)定見(jiàn)附錄A（補(bǔ)充件）。
　　呼吸性粉塵中游離二氧化硅含量的測(cè)定見(jiàn)附錄B（補(bǔ)充件）。
　　附錄A
　　呼吸性矽塵濃度測(cè)定方法
　?。ㄑa(bǔ)充件）
　　A1 原理
　　采集一定體積的含塵空氣，使之通過(guò)分級(jí)預(yù)選器后，將呼吸性粉塵阻留在已知質(zhì)量的濾膜上，由采塵后濾膜的增量，求出單位體積空氣中呼吸性粉塵的質(zhì)量（mg/m³）。
　　A2 器材
　　A2．1 采樣器：必須采用經(jīng)過(guò)國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局指定的或委托的單位檢驗(yàn)合格的呼吸性粉塵采樣器，采樣頭對(duì)粉塵粒子的分離性能應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn)提出的要求，采樣器應(yīng)采用恒定流量。在有防爆要求的作業(yè)環(huán)境中采樣時(shí)，需用防爆型呼吸性粉塵采樣器。采樣頭的氣密性應(yīng)符合GB5748的附錄A（補(bǔ)充件）中A2的要求。
　　A2．2 濾膜：采用過(guò)氯乙烯纖維濾膜（測(cè)塵濾膜），直徑為40mm。當(dāng)過(guò)氯乙烯纖維濾膜不適用時(shí)（如高溫、可溶解濾膜的有機(jī)溶劑存在時(shí)），可改用玻璃纖維濾膜。
　　A2．3 氣體流量計(jì)：采用20L/min的流量計(jì)，流量計(jì)每半年用皂膜流量計(jì)、鐘罩式氣體計(jì)量器或精確度為±1%的轉(zhuǎn)子流量計(jì)校正一次，若發(fā)現(xiàn)流量計(jì)有明顯污染時(shí)，應(yīng)及時(shí)清洗校正。
　　A2．4 天平：用感量為0.00001g的分析天平，按計(jì)量部門的要求，每年檢定一次。
　　A2．5 計(jì)時(shí)器：秒表或相當(dāng)于秒表的計(jì)時(shí)器。
　　A2．6 干燥器：內(nèi)盛變色硅膠。
　　A2．7 硅油：6萬(wàn)粘度左右的甲基硅油。
　　A3 測(cè)定程序
　　A3．1 濾膜的準(zhǔn)備：用小鑷子取下濾膜兩面的襯紙，置于天平上稱量，記錄初始質(zhì)量，然后將濾膜裝入濾膜夾中，確認(rèn)濾膜無(wú)褶皺或裂隙后，放入帶編號(hào)的樣品盒中備用。如用沖擊式呼吸性粉塵采樣器（T·R粉塵采樣器）時(shí)，需將硅油或粘著劑涂在沖擊片上，涂片時(shí)應(yīng)把粘著劑涂得均勻，量不宜過(guò)多，以5~8mg為宜。涂后在天平上稱量，記錄初始質(zhì)量，然后將沖擊片編號(hào)放在存儲(chǔ)盒中備用。
　　A3．2 采樣器的架設(shè)；取出準(zhǔn)備好的濾膜夾裝入采樣頭中擰緊，如用T·R采樣頭時(shí)，將沖擊片也放入采樣頭中，然后擰緊。采樣的采樣頭的入口應(yīng)迎向含塵氣流，若生產(chǎn)中遇有飛濺的泥漿、砂粒對(duì)樣品產(chǎn)生污染時(shí)，采樣頭的入口可側(cè)向含塵氣流。
　　A3．3 采樣開(kāi)始的時(shí)間：連續(xù)性產(chǎn)塵作業(yè)點(diǎn)，應(yīng)在作業(yè)開(kāi)始30min后采樣。不連續(xù)性產(chǎn)塵作業(yè)點(diǎn)，應(yīng)在工人工作時(shí)開(kāi)始采樣。
　　A3．4 采樣流量：在整個(gè)采樣過(guò)程中，必須保持在20L/min，流量應(yīng)穩(wěn)定，以保證呼吸性粉塵采樣器能達(dá)到本標(biāo)準(zhǔn)中要求的采樣性能。
　　A3．5 采樣的持續(xù)時(shí)間應(yīng)根據(jù)測(cè)塵點(diǎn)粉塵濃度的估計(jì)值及濾膜上所需粉塵增量的最低值而定，但采樣時(shí)間不應(yīng)少于10min。
　　A3．6 采集在濾膜上呼吸性粉塵的增量不應(yīng)少于0.5mg，但不得多于10mg。
　　A3．7 采樣后樣品的處理：采樣結(jié)束時(shí)，關(guān)閉采樣器開(kāi)關(guān)，并記錄采樣的持續(xù)時(shí)間、采樣地點(diǎn)、樣品編號(hào)、勞動(dòng)條件等。然后將采集有呼吸性粉塵的濾膜和沖擊片取出，在一般情況下，不需干燥處理，可直接放在天平上稱量，并記錄其質(zhì)量。如果采樣現(xiàn)場(chǎng)的相對(duì)濕度在90%以上時(shí)，應(yīng)將濾膜放在干燥器內(nèi)干燥2h后稱量，并記錄測(cè)定結(jié)果，然后再放入干燥器中干燥30min，再次稱量，如濾膜上有霧滴存在時(shí)，應(yīng)先放在干燥器內(nèi)干燥1.2h后稱量，記錄結(jié)果，再放在干燥器內(nèi)2h，再次稱量。當(dāng)相鄰兩次的質(zhì)量差不超過(guò)0.1mg時(shí)取其最小值。
　　A4 計(jì)算
　　呼吸性粉塵濃度按式（A1）計(jì)算：
　　R=（m₂-m₁）/（Qt）×1000……………………（A1）
　　式中：R——呼吸性粉塵濃度，mg/m³；
　　m₁——采樣前濾膜的質(zhì)量，mg；
　　m₂——采樣后濾膜的質(zhì)量，mg；
　　t——采樣時(shí)間，min；
　　Q——采樣流量，L/min。
　　A5 說(shuō)明
　　本方法為測(cè)定呼吸性粉塵的基本方法，如果使用其他儀器或方法測(cè)定呼吸性粉塵濃度時(shí)，其呼吸性粉塵采樣器的采樣性能必須符合本標(biāo)準(zhǔn)中提出的要求。
　　附錄B
　　粉塵中游離二氧化硅X線衍射測(cè)定法
　?。ㄑa(bǔ)充件）
　　B1 原理
　　當(dāng)X線照射結(jié)晶物質(zhì)時(shí)，該物質(zhì)將產(chǎn)生X線衍射，在一定的條件下，衍射線的強(qiáng)度與被照射物質(zhì)質(zhì)量成正比?；谶@一原理利用X線衍射對(duì)粉塵中游離二氧化硅進(jìn)行定性及定量分析。
　　B2 器材
　　B2．1 X線衍射儀。
　　B2．2 濾膜切取器。
　　B2．3 樣品板。
　　B2．4 呼吸性粉塵采樣器。
　　B2．5 0.00001g分析天平。
　　B2．6 直徑40mm過(guò)氯乙烯纖維測(cè)塵濾膜。
　　B2．7 鑷子、繪圖直線尺、秒表、圓規(guī)等。
　　B3 游離二氧化硅最低檢出限
　　本法測(cè)定粉塵中游離二氧化硅系指α石英，其最低檢出限受儀器性能和被測(cè)物的結(jié)晶狀態(tài)影響較大，一般X線衍射儀當(dāng)濾膜采塵量在0.5mg時(shí)，α石英含量的最低檢出限可達(dá)1%。
　　B4 標(biāo)定曲線
　　B4．1 標(biāo)準(zhǔn)α石英粉塵制備
　　將高純度的α石英晶體粉碎后，首先用鹽酸（1∶1）浸泡2h，除去鐵等雜質(zhì)，再用雙蒸餾水洗凈烘干。然后用瑪瑙乳缽或瑪瑙球磨機(jī)研磨，磨至粒度小于10μm，后，于10%氫氧化鈉溶液中浸泡4h，以除去石英表面的非晶形物質(zhì)，用雙蒸餾水充分沖洗，直到洗液呈中性（pH=7.0），干燥備用。或用符合本條要求的市售標(biāo)準(zhǔn)α石英粉塵制備。
　　B4．2 標(biāo)定曲線的制作
　　將標(biāo)準(zhǔn)α石英粉塵在發(fā)塵室中發(fā)塵，用與作業(yè)環(huán)境采樣相同的方法將標(biāo)準(zhǔn)石英粉塵采集在己知質(zhì)量的濾膜上，采集量控制在0.5~4.0mg之間，在此之間分別采集5~6個(gè)不同質(zhì)量點(diǎn)，采塵后的濾膜稱重后記下增重質(zhì)量，然后從每張濾膜上取5個(gè)標(biāo)樣，標(biāo)樣大小與旋轉(zhuǎn)樣臺(tái)尺寸一致，在測(cè)定α石英粉塵標(biāo)樣前首先測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)硅在（111）面網(wǎng)上的衍射強(qiáng)度（CPS）。然后分別測(cè)定每個(gè)標(biāo)樣的衍射強(qiáng)度（CPS）。計(jì)算每個(gè)點(diǎn)5個(gè)α石英粉塵標(biāo)樣的算術(shù)平均值，以衍射強(qiáng)度（CPS）為縱坐標(biāo)，以α石英質(zhì)量（mg）為橫坐標(biāo)，繪制成標(biāo)定曲線。
　　B5 粉塵采樣及樣品處理
　　B5．1 采樣
　　按GB5748的規(guī)定，從作業(yè)環(huán)境空氣中將粉塵采集在已知質(zhì)量的濾膜上。
　　B5．2 樣品處理
　　采樣后濾膜再次稱重。記下稱量質(zhì)量后，按旋轉(zhuǎn)樣架所需要的大小將采樣濾膜剪成待測(cè)樣品4~6個(gè)。
　　B5．3 測(cè)量前準(zhǔn)備
　　將剪下待測(cè)樣品置于樣品架上，待測(cè)。
　　B6 定性及定量分析
　　B6．1 定性分析
　　在進(jìn)行物相定量分析之前，首先對(duì)采集的樣品進(jìn)行定性分析，以確認(rèn)樣品中是否有α石英存在。
　　B6．1．1 參考的分析條件
　　靶：CuK_a 掃描速度：2°/min
　　管電壓：30Kv 記錄紙速度：2cm/min
　　管電流：40mA 發(fā)散狹縫：1°
　　量程：4000CPS 接收狹縫：0.3mm
　　時(shí)間常數(shù)：1s 角度測(cè)量范圍：10°≤2θ≤60°
　　B6．1．2 物相鑒定
　　將待測(cè)樣品置于X線衍射儀的樣架上進(jìn)行測(cè)定，將其衍射圖譜與《粉末衍射標(biāo)準(zhǔn)聯(lián)合委員會(huì)（JCPDS）》卡片中的α石英圖譜相比較，當(dāng)其衍射圖譜與α石英圖譜相一致時(shí)，表明粉塵中有石英存在。
　　B6．2 定量分析
　　B6．2．1 X線衍射儀的測(cè)定條件應(yīng)與制做標(biāo)定曲線的條件完全一致。
　　B6．2．2 測(cè)定樣品（101）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度
　　在測(cè)定樣品（101）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度后，測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度，測(cè)定結(jié)果按式（B1）進(jìn)行計(jì)算
　　
　　式中：I_i——采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度，CPS。
　　I——在測(cè)定采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度時(shí)，測(cè)得的標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)衍射強(qiáng)度，CPS；
　　I_s——在制定石英標(biāo)定曲線時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度，CPS；
　　I_B——粉塵中石英的衍射強(qiáng)度，CPS。
　　如儀器配件未配有標(biāo)準(zhǔn)硅，可使用標(biāo)準(zhǔn)石英（101）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度（CPS）表示I值。
　　B6．2．3 游離二氧化硅（α石英）含量計(jì)算
　　根據(jù)計(jì)算得到的I_B值（CPS），利用標(biāo)定曲線查出濾膜上粉塵中石英的質(zhì)量（mg），粉塵中的游離二氧化硅（α石英）含量按式（B2）計(jì)算：
　　
　　式中：SiO₂（F）——粉塵中游離二氧化硅（α石英）含量，%；
　　m——濾膜上粉塵中α石英的質(zhì)量，mg；
　　M₂——采塵后濾膜質(zhì)量，mg；
　　M₁——采塵前濾膜質(zhì)量，mg。
　　B7 注意事項(xiàng)
　　B7．1 粉塵粒度大小對(duì)測(cè)定結(jié)果的影響
　　衍射線的強(qiáng)度受粉塵粒度直徑大小的影響，粉塵粒徑在10μm以上時(shí)衍射強(qiáng)度減弱，因此制做標(biāo)定曲線和采樣時(shí)必須注意粒度大小問(wèn)題。制做標(biāo)定曲線的粉塵粒度應(yīng)與采集的粉塵粒度相一致。
　　B7．2 采樣量的控制
　　單位面積上粉塵質(zhì)量不同，石英的X線衍射強(qiáng)度有很大差異。如果濾膜上采集粉塵堆積過(guò)厚，則易于脫落；如果采塵量過(guò)少，在定量檢出限以下，則難以取得準(zhǔn)確定量結(jié)果。因此濾嘴上采塵量一般控制在2~5mg范圍以內(nèi)為宜。
　　A7．3 當(dāng)有與α石英衍射線相干擾的物質(zhì)或影響α石英衍射強(qiáng)度的物質(zhì)存在時(shí)，應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行校正。

　　附加說(shuō)明：
　　本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部提出。
　　本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)預(yù)防醫(yī)學(xué)科學(xué)院勞動(dòng)衛(wèi)生與職業(yè)病研究所、遼寧省勞動(dòng)衛(wèi)生研究所負(fù)責(zé)起草。
　　本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人符紹昌、程玉海、劉占元、樊艷華。
　　本標(biāo)準(zhǔn)由衛(wèi)生部委托技術(shù)歸口單位中國(guó)預(yù)防醫(yī)學(xué)科學(xué)院勞動(dòng)衛(wèi)生與職業(yè)病研究所負(fù)責(zé)解釋