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焦深與最佳聚焦的測量規(guī)范

標 準 號： GB/T 17865-1999
替代情況：
發(fā)布單位： 國家質量技術監(jiān)督局
起草單位： 中國科學院微電子中心
發(fā)布日期： 1999-09-01
實施日期： 2000-06-01
點 擊 數(shù)：
更新日期： 2020年02月04日
內(nèi)容摘要

本標準只涉及集成電路生產(chǎn)中所用的光刻技術及其關系密切的技術的聚集與焦深測量問題。由于設備技術多種多樣，因而不可能提出這些參數(shù)的明確測量方法。本標準只提供基本準則。

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