野王,日本xxxx片免费观看,丁香五月婷婷亚洲,六月丁香婷婷大团结

安全管理網

現(xiàn)行
導航：安全管理網>> 安全標準>> 行業(yè)標準>> 電力>>正文

重摻硅襯底中氧濃度的二次離子質譜測量方法

標 準 號： SJ/T 11498-2015
替代情況：
發(fā)布單位： 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位： 工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院
發(fā)布日期： 2015-04-30
實施日期： 2015-10-01
點 擊 數(shù)：
更新日期： 2021年04月09日
內容摘要

本標準規(guī)定了用二次離子質譜法（SIMS）對重摻硅襯底單晶體中氧濃度總量的測試方法。

如需幫助，請聯(lián)系我們。聯(lián)系電話400-6018-655。
網友評論 more
創(chuàng)想安科網站簡介會員服務廣告服務業(yè)務合作提交需求會員中心在線投稿版權聲明友情鏈接聯(lián)系我們