本文件描述了硅基MEMS制造技術(shù)中所涉及的納尺度膜結(jié)構(gòu)沿厚度方向沖擊試驗(yàn)的要求和試驗(yàn)方法。
本文件適用于采用微電子工藝制造的納尺度結(jié)構(gòu)在一次沖擊負(fù)荷作用下的耐沖擊性能的測(cè)試。