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掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)測試方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號： SJ/T 10274-1991
替代情況：
發(fā)布單位： 機(jī)械電子工業(yè)部
起草單位： 國營南光機(jī)器廠
發(fā)布日期： 1991-11-12
實(shí)施日期： 1992-01-01
點(diǎn) 擊 數(shù)：
更新日期： 2024年09月01日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了測試掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)(以下簡稱“曝光機(jī)勺的一般要求和方法。

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