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用于先進(jìn)集成電路光刻工藝綜合評估的圖形規(guī)范

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 29844-2013
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位: 上海華虹NEC電子有限公司
發(fā)布日期: 2013-11-12
實施日期: 2014-04-15
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更新日期: 2025年02月08日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于先進(jìn)集成電路光刻工藝綜合評估的標(biāo)準(zhǔn)測試圖形單元的形狀、一般尺寸,以及推薦的布局和設(shè)計規(guī)則,這些標(biāo)準(zhǔn)測試圖形包括可供光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡用的各種圖形單元。
本標(biāo)準(zhǔn)適用集成電路的工藝、常規(guī)掩模版、光致抗蝕劑和光刻機(jī)的特征和能力作出評價及交替移相掩模版相位測量,適用于g線、i線、KrF、ArF等波長的光刻設(shè)備及相應(yīng)的光刻工藝。

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